性少妇freesexvideos荷兰,日本东京热无码视频免费,人妻av一区二区三区精品,少妇搡bbbb搡bbb搡爱恋,欧美极品少妇无套实战,丝袜高跟鞋国产av在线观看 ,无码任你躁久久久久久,男人添女人荫蒂视频观看,久久99热这里只有精品国产

ALD簡介

   原子層沉積技術(Atomic Layer Deposition，簡稱ALD)是一種在納米尺度上進行薄膜沉積的先進技術。通過將物質以單原子形式一層一層的鍍在基底表面，擁有優異的三維共形性、大面積成膜的均勻性和精確控制膜厚等特點。

ALD應用

ALD在能源領域應用

2009年，Miyaska課題組將鈣鈦礦材料MAPbI3用作燃料敏化太陽能電池的光伏活性層，正式開啟了鈣鈦礦太陽能電池的新紀元。ALD憑借其均勻成膜性、精準控制厚度和保形性等多種優勢，在光伏領域中發揮著重要作用。除此之外，ALD技術還可用于鋰電池薄膜涂層，提高電池性能。

ALD在泛半導體應用

隨著泛半導體行業的發展，對微型化和集成化要求越來越高，尺寸縮小至亞微米和納米量級，ALD作為一種高精度薄膜沉積技術，可用于晶體管柵極電介質層(高K材料)、金屬柵電極、有機發光顯示器涂層、銅互聯擴散阻擋層、DRAM電介質層、微流體和MEMS涂層、傳感器等眾多領域。

ALD在光學領域應用

由于 ALD 具有的三維共形沉積和大面積均勻性特點，已成功應用于高質量光學薄膜、增透膜、折射率可調的光學薄膜、波狀多層膜，改善了光子晶體的光學性質和可控性，增加了光子晶體在未來光學器件中的應用潛力。

 公司致力于ALD高純半導體薄膜前驅體材料的自主研發和生產，成立以來，已陸續向多家半導體客戶提供了百余種前驅體新材料，包括高純硅基前驅體系列、High-k前驅體系列產品，部分新品已被客戶用于5nm以下制程薄膜設備。我們致力為客戶提供優質的產品并建立互信、長久的合作關系，產品具有自主知識產權且原材料國產化，打破國外壟斷的同時保證供應鏈的安全。研峰科技愿與國內芯片、高端顯示、光伏新能源等高端客戶一起攜手，解決高端半導體材料的把脖子難題，早日實現進口替代。